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원자현미경용 캔틸레버 팁 (공급사 : 제조사 NT-MDT, http://www.ntmdt-tips.com/) 을 공급합니다.

 

사양 문의 (아래 접촉식 또는 비접촉식 글자 부분 클릭하시면 사양 선택용 윈도우창이 열립니다.)

:
접촉식(Contact mode)  또는 비접촉식(Non-Contact 또는 Tapping)

 

구매 연락처 : 010-4293-9577, e-mail : nano@nano-i.com

 

 

 

 

응용 분야 및 선택 가이드  (Application & Selection guide)

 

당사는 가장 다양하고 일반적으로 사용되는 "금막이 입혀진 (Golden)" 표준 실리콘 프로브 (probe) 를 제공하고 있습니다. 이와 같이 특별하게 디자인된 프로브는 보다 일관된 생산이 가능하고 그 끝이 예리하고 뾰족하여 (보통 6nm) 광범위하고 다양한 애플리케이션에 적용되고 있습니다. 폴리 실리콘 캔틸레버와 실리콘 팁으로 형성된 에탈톤 프로브 (Etalton probe)는 다중 재료 설계의 장점을 결합하였습니다. 이 프로브는 고객께 증가된 반사율, [5:1] 의 높은 종횡비 (aspect ratio),  캔틸레버 파라미터에 대한 엄격한 제어 인자를 제공합니다. 깊은 트렌치,구멍(hole)과 좁은 간격에 대한 활용을 위하여 표준 팁의 끝에 카본으로 된 "Whisper-type" 프로브가 성장되어 있습니다. 이 "Whisker" 팁은 높은 종횡비 ( 10 : 1 이상 )를 가지며, 예리하고 뾰족한 곡률반경 ( < 10nm )을 가집니다. 다이아몬드형 탄소 프로브 ( Diamond-Like carbon, DLC) 는 당사가 제공하는 가장 예리하고 뾰족한 팁입니다. 일반적인 방법으로 측정된 곡률반경은 정확히 1nm 가 됩니다. DLC 는 피사체에 대하여 수나노미터 크기의 이미지를 얻어내는데 유용합니다. 실리콘 그레이팅 (Silicon grating) 은 보다 정확한 AFM 작동이 되게 하며 보다 신뢰성 있는 스캔을 할 수 있게 합니다. 그레이팅은 AFM 이미지에 대하여 x,y,z 방향으로의 보정을 하거나, 각도 왜곡, 히스테리시스, 크리프(creep) 또는 크로스 커플링 (Cross-coupling) 효과를 감지하는데 쓰입니다.

 

*** 크리프 : 재료에 일정한 응력을 장시간 가해 두었을 때, 시간 경과와 함께 변형되고, 변형도가 증가해 가는 현상을 크리프라고 한다.

 

 

표면 교정 (Surface modification)

AFM 산화 패터닝
(AFM Oxidation Lithography),  

AFM 리쏘그래피 스크래칭
(AFM lithography scratching)

AFM 리쏘그래피 동적 플오우잉
(AFM lithography dynamic plowing)

DCP11, DCP20, NSG01, NSG30 with Pt, TiN, Au 코팅

원자힘 현미경 패터닝
(AFM oxidation lithography)

Ti 박막의 양극 산화 나노 패터닝 (DCP 11 캔틸레버 사용됨)

SNOM 리쏘그래피

MF001, MF002, MF003, MF004, MF005

 

 

광학 특성 (Optical properties)

전단력 현미경
(Shear force microscopy)  

투과 모드 (Transmission mode)

반사 모드 (Reflection mode)

발광 모드 (Luminescence mode)

SNOM 리쏘그래피

MF001, MF002, MF003, MF004, MF005

투과 모드
(Tramsmission mode)

532.8 nm 파장의 다이오드 펌프 레이저로 가공된 광학 격자 (grating) 의 SNOM 이미지

 

 

자기적 특성 (Magnetic properties)

AC/DC 자기력 현미경
(AC/DC Magnetic force microscopy)

DCP11, DCP20, NSG01, NSG30 with Pt, TiN, Au 코팅

AC MFM

이트륨 철 가닛 (Yttrium Iron Garnet, YIG) 으로 된 이질성 박막에 대한 각기 다른 표면 구조에 대한 이미지. YIG 는 박막 두께 방향으로 비등방성 자기장 변화의 성질을 가진다.

 

 

 

토포그래픽 이미징 ( Topographic imaging )

접촉 모드 (Contact mode)

CSG01, CSG10, FMG01,CSC05, CGS30

접촉 모드
(Contact error mode)

AFM 의 접촉 모드로 측정된 강유전 PZT 박막 표면의 표면 부조 (Surface relief) 현상

반접촉 모드
(Semicontact mode)

고온 코팅된 유리 매트릭스 표면

비접촉 모드 (Non-contact mode) HA-NC, NSG01, NSG10, NSG30, VIT_P, FMG01, NSG01_DLC, NSG10_DLC, NSG05
반접촉 모두 (Semicontact mode)

HA-NC, NSG01, NSG10, NSG03, NSG30, VIT_P, FMG01, NSG01_DLC, NSG10_DLC, NSG05

고분해능 토포그래픽 이미지 (High-resolution topographic image)

CSC05, NSG05, NSG01_DLC, NSG10_DLC, CSG01, CSG10, FMG01, HA-NC, NSG01, NSG10, NSG03, NSG30

 

 

탄성 특성 ( Elastc properties )

위상 영상 (Phase Imaging)

HA-NC, NSG01, NSG10, NSG03, NSG30

원자력간 음파 현미경
(Atomic force acoustic microscopy, AFAM)

AFAM 의 진폭 감지법으로 영상화된 운모 표면의 단결정 폴리에틸렌

힘 변조 (Force Modulation)
AFAM
횡력 현미경
(Lateral force microscopy)

FMG01, CSG01, CSG10, CSG30

화학력 현미경
(Chemical force microscopy)

tipless probes of NSG01, NSG10, NSG03, NSG30, FMG01, CSG01, CSG10

힘-거리 곡선
(Force  distance curves)

NSG01, NSG10, NSG03, NSG30, FMG01,HA-NC, CSG01, CSG10, CSG30

Adhesion force imaging

CSG01, CSG10, CSG30

 

 

전기적 특성 ( Electric properties )

다양한 기술 적용 (Many-Pass Techniques)

확산 저항 이미지

(Spreading resistance imaging)

두 혼합 폴리머 반도체 표면의 전류 분포에 대한 이미지

전기력 현미경
(Electric force microscopy)

켈빈 탐침 현미경
(Kelvin probe microscopy)

전압 변조 (Voltage modulation)

주사 콘덴서 현미경
(Scanning capacitance microscopy)

FMG01, NSG01, NSG10, NSG03, NSG30 with Au, Pt. TiN coating

힘-거리 곡선
(Force  distance curves)

NSG01, NSG10, NSG03, NSG30, FMG01,HA-NC, CSG01, CSG10, CSG30

접촉 모드 기술 (Contact technique)

AcContact piezoresponse
Force miicroscopy
Spreading resistance imaging

CSG01, CSG10, CSG30 with Au, Pt, TiN coatings

 

 

 

 


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